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近位抽取激光氨逃逸在線分析系統


一、項目概述

      針對脫硝氨逃逸在線監測高端產品要求,大方科技結合在脫硝氨逃逸在線監測的豐富經驗,開發近位抽取激光氨逃逸在線分析系統。測量單元主要部分安裝在煙道壁外,抽取的氣體直接進入氣室,不需要經過伴熱管線,而儀表系統通過光纜控制氣室,可放置在室內,避免了惡劣的外部環境。該產品實現了原位和抽取測量的完美結合

二、測量原理

      系統采用可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術進行NH3的測量,以可調諧激光器作為光源,發射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,根據朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關系,從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有極高的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數:

                       

三、測量方案

      根據脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求,方案采用了大方科技經典的近位抽取+多反長光程測量池技術,并進行一體化設計,設備直接安裝在煙道上空間占用小

      系統由取樣分析單元和儀表組成,取樣分析單元安裝于煙道上,煙氣經采樣探頭取樣后直接進入設備樣氣室進行測量分析,無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應時間的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達30米,可大大提高檢測下限。 

四、系統特點

1 采用TDLAS技術,不受背景氣體影響

      系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環境中其它成分的干擾。

2 系統無漂移,避免了定期校正需要

      系統采用波長調制光譜技術,并且進行動態的補償,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環境變化的影響,不存在漂移現象。

3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失

      抽取氣體直接進入氣室,不需要經過伴熱管線,煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點,避免氨氣吸附和損失,保證樣氣真實性。

4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測量精度

      系統采用多次反射測量池技術,光程可達30米,極大地提高了測量精度。

5 可靠性高,運行穩定

      分析系統無任何運動部件,極大地增強了可靠性。經預處理抽取測量,儀器壽命長,維護方便,運行費用低。自動反吹控制,反吹間隔和反吹時長根據工況設置,有效避免濾芯堵塞。

6 安裝使用方便

      分析系統適合安裝在不同工業環境下,模塊化設計,安裝方便,開機預熱后便可正常運行無需進行現場光路調試。濾芯采用覆膜工藝制造,后置安裝,無需專業工具拆卸,更換和清理極其方便。

7 專利技術,便于維護光學器件

      大方科技特有的樣氣室設計,包含維護窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學器件進行清潔,無需重新調節光路,讓維護更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態,可以通過自檢及自恢復,使分析儀重新恢復最佳測量工作狀態。

9 自主知識產權

      大方科技深耕TDLAS技術領域20年,針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發,擁有數十項發明專利和軟件著作權,對產品擁有完全自主知識產權,產品具有高可靠性和適用性。

五、典型應用:

      大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監測;

      工業鍋爐脫硝氨逃逸監測; 

      煉焦企業脫硝氨逃逸監測。


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